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隨著制造工藝的更新?lián)Q代，半導(dǎo)體的電路線寬越微細化，目前**進的是7納米（納米為10億分之1米），5nm工藝的芯片正式生產(chǎn)也已經(jīng)提上日程。半導(dǎo)體線路越細微化性能越會提高，耗電量也將降低，但同時生產(chǎn)將會有很大的難度，如果出現(xiàn)細微的缺陷，半導(dǎo)體的電路就無法正常形成。

半導(dǎo)體制造工藝的精細化，相應(yīng)半導(dǎo)體缺陷檢測難度也越困難。微米級電子半導(dǎo)體最常使用的是X-ray實時成像檢測裝備，從檢測圖像中找到缺陷位置，但由于電子元件越做越小，所以對X-ray檢測設(shè)備的分辨率和放大倍率要求很高。目前精度**的是半導(dǎo)體CT檢測設(shè)備，它與X-ray設(shè)備檢測原理相同，但CT設(shè)備的檢測精度會更高，并且它的檢測圖像是三維的，通過對被測物體進行360度旋轉(zhuǎn)獲取成百上千張二維數(shù)字成像投影并通過特定的算法將其重建為三維體積圖像，用戶可以對三維體積進行任意角度的觀察和切片。

X射線檢測裝備主要是檢測半導(dǎo)體接線處的焊接問題，焊接容易出現(xiàn)虛焊、漏焊等缺陷，一旦形成這些缺陷，半導(dǎo)體就容易出現(xiàn)短路等問題，為了半導(dǎo)體元件的正常使用，在焊接完成后需要進行缺陷檢測。隨著半導(dǎo)體生產(chǎn)技術(shù)的發(fā)展，X射線檢測裝備也在不斷研發(fā)升級，致力于為電子制造商提供優(yōu)質(zhì)的檢測裝備。

納米級芯片檢測目前X射線檢測裝備還無法達到檢測要求，但為了適應(yīng)科技的發(fā)展，各類缺陷檢測手段一定會應(yīng)運而生，用來更好的服務(wù)產(chǎn)品和企業(yè)。

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